关键词 |
等离子体源,等离子体源,ECR同轴等离子体源,单腔ECR等离子体源 |
面向地区 |
全国 |
材料处理：微波等离子体源可用于表面处理、薄膜沉积和蚀刻工艺。它们可以帮助在各种材料上沉积薄膜，或改变材料的表面特性。
Sairem公司是法国一家专注于提供微波源、微波等离子体源的公司，它的微波源被广泛应用于PECVD法制造生长金刚石设备中，等离子体源用于清洗、喷溅、蚀刻等设备中。
等离子体源溅射是一种物理现象，指的是在等离子体能量密集区域中的离子和电子受到能量激发后从其表面飞出，造成溅射现象。这种现象常常在等离子体物理研究、薄膜沉积和半导体制备过程中出现。
等离子体源溅射通常是通过将能量注入等离子体中，激发其内部原子或分子，使其进入激发态。当这些原子或分子回到基态时，它们会释放出能量并将部分能量转移给周围的粒子，导致粒子从等离子体表面溅射出来。
等离子体源溅射在许多应用中都具有重要作用，例如在薄膜沉积过程中，通过控制等离子体源溅射可以调节薄膜的成分和结构，从而影响薄膜的性能。此外，等离子体源溅射也被应用于半导体制备过程中，用来清洁和改性半导体表面，以提高器件的性能和稳定性。
| 主营行业：微波传感器 |
| 公司主营：微波等离子体源,脉冲电流探头 |
| 企业类型：有限责任公司 |
| 注册资金：人民币50万 |
| 公司成立时间：2005-01-12 |
| 经营模式：生产+贸易型 |
| 经营期限：2005-01-12 至 2025-01-11 |
| 经营范围：技术开发、转让;销售电子产品、机械设备、计算机软硬件及外设、文化体育用品、五金交电、通讯设备;技术进出口;代理进出口:货物进出口。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。) |
| 公司邮编：102300 |
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