北京智联兴达科贸有限公司
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公司产品

Company Product
  • ICP27MHz等离子体源电化学

    来源:北京智联兴达科贸有限公司 时间:2025-01-26 13:41:22 [举报]

    电子器件制造:ECR等离子体源在半导体工业中,微波等离子体源可用于清洁晶圆、蚀刻硅片和沉积薄膜层。其结构小巧,可以多个等离子体源组成等离子墙,或者不同形状以使之便于不同情况的工程应用。

    Sairem公司是法国一家专注于提供微波源、微波等离子体源的公司,它的微波源被广泛应用于PECVD法制造生长金刚石设备中,等离子体源用于清洗、喷溅、蚀刻等设备中。

    Sirem微波等离子体源源被设计成立或远程操作、良好的电力稳定性和显著低电力损耗。 详细和交互式的界面使它们易于操作、使用,可以通过RS232、RS485, ETHERNET 或现场总线连接进行模拟控制,如CanOpen、Modbus、Profibus等。

    Sairem是一家专注于射频与微波技术的公司,其微波源产品可应用于各种领域的加热和干燥需求,包括医药领域的药材加热。 在药材加热方面,Sairem的微波源可以提供高频率、高功率的微波能量,用于对药材进行加热处理。这种加热方式具有快速、的特点,可以准确控制加热温度和加热时间,有效提高药材的品质和功效。 Sairem的微波源产品还可以与其他设备和系统集成,实现自动化的药材加热过程,提高生产效率和产品质量。 总之,Sairem的微波源在药材加热方面有着广泛的应用前景,可以满足药材加热的需求,并提高药材的质量和效果。
    Sairem 微波等离子体源可用于化工污染处理。它利用微波能量来加热和处理化工废物,例如污水、有机废物或化学废料。这种技术可以有效地降解有害物质,提高处理效率,并减少对环境的影响
    等离子体源溅射是一种物理现象,指的是在等离子体能量密集区域中的离子和电子受到能量激发后从其表面飞出,造成溅射现象。这种现象常常在等离子体物理研究、薄膜沉积和半导体制备过程中出现。

    等离子体源溅射通常是通过将能量注入等离子体中,激发其内部原子或分子,使其进入激发态。当这些原子或分子回到基态时,它们会释放出能量并将部分能量转移给周围的粒子,导致粒子从等离子体表面溅射出来。

    等离子体源溅射在许多应用中都具有重要作用,例如在薄膜沉积过程中,通过控制等离子体源溅射可以调节薄膜的成分和结构,从而影响薄膜的性能。此外,等离子体源溅射也被应用于半导体制备过程中,用来清洁和改性半导体表面,以提高器件的性能和稳定性。

    标签:等离子体源电化学,单腔ECR等离子体源,ECR同轴等离子体源,等离子体源

公司信息

  • 北京智联兴达科贸有限公司
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    企业已认证
    微信未认证
    天眼查已核实
  • 1天
  • 有限责任公司
  • 2005-01-12
  • 微波等离子体源,脉冲电流探头
  • 北京 门头沟 北京市门头沟区东辛房街88号B1

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主营产品
微波等离子体源,脉冲电流探头

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